实验设备

● 输入电源：220V AC 50/60Hz
● 最高使用功率：100W
● 靶头数量：单个1英寸磁控溅射靶
● 设备功率：800W（包括真空泵）
● 样品台加热温度：500℃

● 采用石英腔体，尺寸：166 mm OD x 150 mm ID x 250 mm H
● 密封法兰:直径为165 mm，采用金属制作，密封采用O形密封圈

● 设备有两种射频电源可选分别为：（图一、二）
● 300W自动匹配射频电源
● 100W的手动匹配射频电源

            图1                           图2
注意：
● 1英寸靶头最大使用功率为100W
● 自动射频电源的最大功率为300W，但是受靶头限制，最大功率只能使用100W
● 此设备支持多种DIY方案，购买前请务必与我公司销售联系，同时欢迎您带料到科晶实验室实验

● 一个1英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接（图一）
● 仪器中安装有直径为50mm的不锈钢可旋转样品台，其与溅射头之间距离可调
● 溅射头角度可调
● 样品台可加热，加热温度室温-500℃
● 安装有一可手动操作的挡板
● 最大可制膜的直径为:4英寸（参考值，详情请点击）
● 可以单独订购RF连接线作为备用（图四）
● 设备包含一台水冷机，用于靶头冷却（图五）

                图1                            图2                               图3                              图4                                  图5

● 安装有KF25真空接口
● 数字真空压力表（Pa）
● 此系统运行可通入气体运行
● 采用机械泵<1.0E-2 Torr（参考值，详情请点击）
● 采用涡旋分子泵<1.0E-5 Torr（参考值，详情请点击）
● 可在本公司选购各种真空泵

● 设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶
● 设备前面板上装有一气流调节旋钮，方便调节气流

● 靶材尺寸要求：Φ50mm ×（0.1-3）mm(厚度)
● 可在本公司选购各种靶材

可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上

540 mm L x 540 mm W x 1100 mm H

● 此设备有多种DIY方案可供选择，具体请联系销售部
● 为了保证溅射效果，非导电靶材必须安装铜垫块
● 可在本公司购买单晶基片从A到Z（点击下图查看详情）

本公司溅射镀膜机在500℃已经成功将ZnO溅射在Al2O3衬底上（点击下图查看XRD图谱）

● 有时为了达到理想的薄膜厚度，可能需要多次溅射镀膜
● 为了得到较好的薄膜质量，必须通入高纯气体（建议> 5N）
● 在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净
● 要达到薄膜与基底良好结合，请在溅射前清洁基材表面
● 超声波清洗（详细参数点击下面图片）：（1）丙酮超声（2）异丙醇超声-去除油脂（3）吹氮气干燥（4）真空烘箱除去水分。
● 等离子清洗（详细参数点击下面图片）：可表面粗糙化，可激活表面化学键，可祛除额外的污染物。
● 制造一个薄的缓冲层（5纳米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以应用于改善金属和合金的附着力。

     超声波清洗机         等离子清洗机              蒸镀仪                    手套箱

● 注意：产品内部安装有高压元件，禁止私自拆装，带电移动机体。
● 气瓶上应安装减压阀（设备标配不包括），保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。
● 溅射头连接到高电压。为了安全，操作者必须在关闭设备前装样和更换靶

CE认证